-
1 Atmospheric pressure chemical vapor deposition
Electronics: APCVDУниверсальный русско-английский словарь > Atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
2 химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
-
3 химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
1) Electronics: atmospheric-pressure chemical vapor deposition2) Microelectronics: atmospheric pressure cvdУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
См. также в других словарях:
atmospheric-pressure chemical vapor deposition — cheminis garinis nusodinimas atmosferos slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. atmospheric pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei atmosphärischem Druck, f rus. химическое… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Vacuum deposition — Not to be confused with Vacuum coating. Vacuum deposition is a family of processes used to deposit layers atom by atom or molecule by molecule at sub atmospheric pressure (vacuum) on a solid surface. The layers may be as thin as one atom to… … Wikipedia
Vapor pressure — (also known as equilibrium vapor pressure or saturation vapor pressure ), is the pressure of a vapor in equilibrium with its non vapor phases. All liquids and solids have a tendency to evaporate to a gaseous form, and all gases have a tendency to … Wikipedia
Evaporation (deposition) — Evaporation machine used for metallization at LAAS technological facility in Toulouse, France. Evaporation is a common method of thin film deposition. The source material is evaporated in a vacuum. The vacuum allows vapor particles to travel… … Wikipedia
APCVD — Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Electronics) Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Physics) Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Chemistry) … Abbreviations dictionary
CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition химическое парофазное осаждение) хим … Википедия
